Laboratorium wyposażone jest w bazę aparaturową, która pozwala wytwarzać kompletne struktury oraz przyrządy detekcyjne. W jego skład wchodzi:
- pracownia fotolitograficzna wyposażona w mask aligner SUSS MA/BA GEN6;
- laboratorium chemiczne do trawień mokrych wyposażone w zautomatyzowane stanowisko do wysoceprecyzyjnego i jednorodnego trawienia warstw półprzewodnikowych metodą chemiczną mokrą (kontrolowalność trawienia wgłębnego lepsza niż ±10 nm);
- laboratorium próżniowe do nanoszenia warstw metalicznych metodą parowania próżniowego (wyposażone w system wytwarzania powłok przy użyciu wiązki elektronowej (electron-beam evaporation) MiniLab 080 firmy Moorfield Nanotechnology);
- mikroskop optyczny (50 – 1000x) z kontrastem Nomarskiego;
- profilometr optyczny WYKO NT 1100 do obrazowania oraz charakteryzowania powierzchni materiałów półprzewodnikowych;
- układ do precyzyjnego, mechanicznego cięcia warstw półprzewodnikowych (powierzchnia próbki >2×2 mm2);
- półautomatyczny wire-bonder Delvotec 53XX BDA do wykonywania mikro-połączeń elektrycznych.
Laboratorium zlokalizowane jest przy ulicy Kaliskiego 2 w Warszawie (bud. 100, p. 97).